9 月 12 日,半導(dǎo)體板塊強(qiáng)勢(shì)拉升,芯原股份漲超 10% 創(chuàng)歷史新高,市場(chǎng)對(duì)超高純金屬材料的關(guān)注度持續(xù)飆升。隨著3nm芯片走向量產(chǎn),半導(dǎo)體行業(yè)正迎來一場(chǎng)無聲卻深刻的材料革命。芯片制造對(duì)金屬純度的要求已逼近物理極限——以銅為例,7N級(jí)(99.99999%)超高純銅成為剛需,電阻率大幅降低,電流承載能力顯著提升,在這場(chǎng)以"原子級(jí)精度"為目標(biāo)的競(jìng)爭(zhēng)中,中國力量正悄然重構(gòu)全球供應(yīng)鏈格局。
超高純金屬:從依賴進(jìn)口到國產(chǎn)突破
在芯片制造的關(guān)鍵環(huán)節(jié),金屬純度直接影響性能與良率。3nm制程中,7N高純銅通過原子級(jí)沉積形成微電路,使電阻降低30%,電流密度突破5×10? A/cm²。而封裝環(huán)節(jié)的"單晶納米銅"技術(shù)也實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)突破,晶粒尺寸控制在50納米以內(nèi),焊接強(qiáng)度提升40%,打破海外長(zhǎng)期壟斷。目前,江豐電子、有研新材等企業(yè)已實(shí)現(xiàn)5N級(jí)以上靶材量產(chǎn),安集科技在拋光液、鼎龍股份在拋光墊領(lǐng)域不斷擠壓陶氏、Cabot等國際巨頭的市場(chǎng)份額。中國不僅是全球最大半導(dǎo)體消費(fèi)市場(chǎng),更逐漸成為高端材料的供應(yīng)極。
小金屬:戰(zhàn)略價(jià)值與資源博弈并存
鈷、鉭、銦等小金屬在7nm以下制程中扮演關(guān)鍵角色。鈷替代傳統(tǒng)銅鎢合金,使芯片傳輸速度提升15%;鉭作為阻擋層材料,雜質(zhì)需控制于ppb級(jí),直接影響先進(jìn)制程良率。銦的需求爆發(fā)尤為顯著。除ITO靶材外,在異質(zhì)結(jié)電池(HJT)和800G光模塊推動(dòng)下,2035年全球銦需求或達(dá)8000噸,較當(dāng)前增長(zhǎng)15倍。中國作為銦、鍺主產(chǎn)國,通過出口管制與回收技術(shù)提升雙向發(fā)力,逐步掌握資源話語權(quán)。
技術(shù)創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)國產(chǎn)替代提速
納米金屬材料不斷突破性能邊界。國內(nèi)企業(yè)如復(fù)朗施已實(shí)現(xiàn)3納米級(jí)金屬顆粒量產(chǎn),成本降低40%;博威合金開發(fā)的高導(dǎo)熱銅合金應(yīng)用于英偉達(dá)H100芯片散熱,氧化鎵單晶成本降至日本同類產(chǎn)品的50%。與此同時(shí),循環(huán)經(jīng)濟(jì)戰(zhàn)略加速推進(jìn)。中國從礦渣中提取高純鎵,年產(chǎn)能已達(dá)500噸,而歐美也在積極布局電子廢棄物回收,目標(biāo)2030年實(shí)現(xiàn)鎵、銦回收率超70%。
從追趕走向引領(lǐng)
中國半導(dǎo)體材料行業(yè)已進(jìn)入從"國產(chǎn)替代"到"技術(shù)輸出"的轉(zhuǎn)折點(diǎn)。在濕電子化學(xué)品、靶材、拋光材料等多個(gè)細(xì)分領(lǐng)域,國產(chǎn)化率持續(xù)提升,部分產(chǎn)品純度達(dá)到PPT級(jí)別,8英寸氧化鎵單晶等技術(shù)實(shí)現(xiàn)全球首發(fā)。
結(jié)語
半導(dǎo)體金屬材料已從"制造耗材"升級(jí)為"戰(zhàn)略資源",在定義未來科技格局中占據(jù)核心地位。隨著中國在超高純提煉、納米結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、循環(huán)利用等關(guān)鍵技術(shù)上的突破,全球供應(yīng)鏈正迎來新一輪權(quán)力重構(gòu)。誰掌握材料,誰就掌握未來——這場(chǎng)無聲的競(jìng)賽,才剛剛開始。
(注:
備注:數(shù)據(jù)僅供參考,不作為投資依據(jù)。
掃碼下載
免費(fèi)看價(jià)格